SPIE（國(guó)際光學(xué)工程學(xué)會(huì)）宣布，其在半導(dǎo)體行業(yè)新興技術(shù)領(lǐng)域的重要會(huì)議——SPIE先進(jìn)光刻技術(shù)會(huì)議將于2026年2月22日至26日在美國(guó)加利福尼亞州圣何塞舉行。此次會(huì)議將匯集全球頂尖的研究人員和行業(yè)專家，共同探討光學(xué)和極紫外（EUV）光刻、圖案化技術(shù)、計(jì)量學(xué)以及半導(dǎo)體制造中的過程集成等領(lǐng)域的最新進(jìn)展。
在即將到來的會(huì)議上，參與者將有機(jī)會(huì)聽取來自世界各地的知名演講者分享他們的研究成果和突破性進(jìn)展。其中，來自荷蘭ASML公司的Christophe Fouquet、美國(guó)加州大學(xué)洛杉磯分校的Subramanian Iyer、瑞士IBM研究前沿研究所的Heike Riel以及臺(tái)灣臺(tái)積電公司的Michael Wu等專家將作為特邀嘉賓進(jìn)行演講。這些演講將涵蓋廣泛的主題，從先進(jìn)的納米光刻技術(shù)到計(jì)算圖案設(shè)計(jì)，再到新穎的圖案化技術(shù)和材料工藝的進(jìn)步。
除了精彩的演講和專題討論會(huì)之外，參會(huì)者還可以通過一系列的網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)和課程進(jìn)一步提升自己的技能和知識(shí)。此外，會(huì)議還設(shè)有展覽區(qū)，展示包括光刻膠、EUV材料在內(nèi)的各種特種材料以及電子束光刻系統(tǒng)等先進(jìn)技術(shù)解決方案。這些展覽不僅為參會(huì)者提供了了解最新技術(shù)和產(chǎn)品的機(jī)會(huì)，也為參展商提供了一個(gè)展示其創(chuàng)新成果的重要平臺(tái)。
此次SPIE先進(jìn)光刻技術(shù)會(huì)議旨在促進(jìn)學(xué)術(shù)界與工業(yè)界之間的合作與交流，推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新與發(fā)展。對(duì)于希望深入了解并參與這一快速發(fā)展的領(lǐng)域的人來說，這無疑是一個(gè)不容錯(cuò)過的機(jī)會(huì)。通過參加此次會(huì)議，參與者不僅能獲得寶貴的行業(yè)信息和技術(shù)知識(shí)，還能建立重要的專業(yè)聯(lián)系網(wǎng)絡(luò)。
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下屆展會(huì)時(shí)間：2026年02月22號(hào)~02月26號(hào)
展會(huì)行業(yè)：科學(xué)
